Китайская компания Prinano, входящая в состав PuLin Technology, совершила значительный прорыв в области производства полупроводниковых технологий, поставив свой первый полностью самостоятельно разработанный наноимпринтный литограф модели PL-SR для промышленного использования. Этот шаг стал важным событием для индустрии, поскольку ранее такие системы были доступны только у немногих крупнейших мировых производителей, таких как Canon, которая стала первой компанией, предложившей подобные решения для заказчиков. Теперь же Prinano стала второй компанией в мире, способной предложить наноимпринтные литографические системы, предназначенные для реализации реальных производственных задач на предприятиях по всему миру.
Эта новая технология обладает возможностью создавать схемы с шириной линий менее десяти нанометров, что является критически важным для современного прогресса в области миниатюризации и увеличения производительности микросхем. В сравнении с Canon FPA-1200NZ2C, способной воспроизводить схемы с минимальной шириной линий около 14 нанометров, система Prinano демонстрирует потенциал для производства чипов класса 5 нанометров, что открывает новые горизонты для разработки и внедрения передовых технологий. Несмотря на заявления, что PL-SR может работать с технологическим процессом до 5 нанометров, эксперты отмечают, что это не означает автоматического производства самой передовой логики, поскольку реальные показатели качества и надежности требуют дальнейших исследований и доработок.
Значительным преимуществом нанопечатной литографии является отсутствие необходимости использования дорогостоящего и энергозатратного источника экстремально ультрафиолетового излучения (EUV), применяемого в современных коммерческих EUV-литографических системах. Это значительно снижает как первоначальные инвестиционные расходы, так и энергетические издержки при эксплуатации оборудования. Однако, у этого подхода есть свои компромиссы. В частности, производственная скорость нанопечати уступает традиционной оптической литографии, и система менее подходит для создания сложных архитектур с множеством логических элементов и тончайшими компонентами, что важно при производстве CPU и GPU. В основном, такие системы находят применение в производстве специализированных устройств, таких как флэш-память и другие виды энергонезависимой памяти.
Механизм работы Prinano основан на передовой нанофотолитографической технологии, которая использует жесткую кварцевую форму, выгравированную с высоким разрешением, и прижимает ее к тонкому слою резистного материала, нанесенного на кремниевую пластину. В системе реализована динамическая регулировка объема капель струйного модуля, что позволяет сохранять очень тонкий слой резиста толщиной менее десяти нанометров с отклонением менее двух нанометров. Благодаря этому достигается высокая точность воспроизведения схем, что критично для низкоразмерной наноэлектроники. При этом PL-SR способна обрабатывать пластины диаметром 300 миллиметров, что соответствует стандартам массового производства полупроводниковых устройств.
Внедрение такой технологии в реальное производство свидетельствует о растущей зрелости китайской микроэлектронной индустрии и её стремлении к самостоятельности в области высокотехнологичных производственных систем. В то время как традиционные компании-супердержавы продолжают строить свои основные образы на использовании EUV-технологий и масштабных фабрик, Китай активно развивает альтернативные подходы, способные уменьшить зависимость от зарубежных решений и обеспечить конкурентные преимущества на мировом рынке. В будущем, такие системы могут стать частью более комплексных производственных цепочек, увеличивая гибкость и снижая издержки производства, что крайне важно для развития внутреннего сегмента электронной промышленности и для расширения экспорта высокотехнологичных продуктов. В целом, достижения компании Prinano знаменуют собой важный этап в развитии нанотехнологий и демонстрируют потенциал Китая как крупного игрока в области современной микроэлектроники.